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高純氣體輸送及儲運也是影響電子氣體質(zhì)量的關(guān)鍵因素。超高純氣體的生產(chǎn)和應(yīng)用要求使用高質(zhì)量的氣體包裝儲運容器、相應(yīng)的氣體輸送管線、閥門和接口，要求相應(yīng)器件耐高壓、耐高真空，對于腐蝕性氣體要求耐腐蝕，特種氣體廠家供應(yīng)，以避免二次污染的發(fā)生。隨著氣體純度的提高、產(chǎn)品種類的增多，對包裝容器的要求也越來越高，對于氣瓶內(nèi)壁處理技術(shù)以及氣密性好無污染的閥門、減壓器、過濾器等的研制提出了較高要求。

特種氣體在蝕刻中的應(yīng)用

蝕刻是采用化學(xué)和物理方法，有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程。刻蝕的目的是在涂膠的硅片上正確地復(fù)1制掩膜圖形。刻蝕分為濕法蝕刻和干法蝕刻。濕法蝕刻是利用液態(tài)化學(xué)試劑或溶液通過化學(xué)反應(yīng)進行蝕刻。干法蝕刻利用低壓放電產(chǎn)生的等離子體中的離子或游離基與材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，或通過轟擊等物理作用而達到蝕刻的目的。其主要介質(zhì)是氣體。干法蝕刻的優(yōu)點是各向異性(即垂直方向蝕刻速率遠大于橫向速率)明顯、特征尺寸控制良好、化學(xué)品使用和處理費用低、蝕刻速率高、均勻性好、良率高等。常用的干法刻蝕是等離子體蝕刻。

硅片的蝕刻氣體（特種氣體）主要是氟基氣體，包括四氟化碳、四氟化碳/氧氣、六氟化硫、六氟乙1烷/氧氣、三氟化氮等。但由于其各向同性，太原特種氣體，選擇性較差，特種氣體公司，因此改進后的蝕刻氣體通常包括氯基(Cl2)和xiu基(Br2、HBr)氣體。反應(yīng)后的生成物包括四氟化1硅、四氯硅1烷和SiBr4。鋁和金屬復(fù)合層的蝕刻通常采用氯基氣體，如CCl4、Cl2、BCl3等。產(chǎn)物主要包括AlCl3等

氣體工業(yè)是國民經(jīng)濟基礎(chǔ)工業(yè)之一，特種氣體廠家哪家好，覆蓋社會生產(chǎn)的各個領(lǐng)域，受益于國民生活，牽動著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展。特種氣體是指那些在特定領(lǐng)域中應(yīng)用的，對氣體有特殊要求的純氣，高純氣或由高純單質(zhì)氣體配制的二元或多元混合氣。隨著中國經(jīng)濟的快速發(fā)展，特種氣體在國民經(jīng)濟中的重要地位和作用日益凸顯。主要體現(xiàn)在煉油行業(yè)、冶金行業(yè)、電子器件、環(huán)保產(chǎn)業(yè)。在冶金工業(yè)中，氫氣主要用做還原氣，以便將金屬氧化物還原成金屬。

據(jù)相關(guān)數(shù)據(jù)統(tǒng)計，目前我國特種氣體年銷售額中，電子行業(yè)約占40%，石油化工約占40%；醫(yī)1療環(huán)保約占10%，其它約占10%。以電子氣體為例，電子氣體是指用于半導(dǎo)體及其它電子產(chǎn)品生產(chǎn)的氣體。隨著我國高新技術(shù)、新型能源、新型電光源、光電半導(dǎo)體器件、光纖通訊器件的迅猛發(fā)展，將帶動電子特種氣體的發(fā)展。

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